
為什么HoFCVD完全不用NF3氣體
- 分類:技術(shù)服務(wù)
- 作者:Haibin Huang
- 來(lái)源:
- 發(fā)布時(shí)間:2025-03-19
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【概要描述】
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圖1. (a)PECVD鍍膜原理示意圖
(b) HoFCVD鍍膜原理示意圖
(c) HoFCVD熱絲載板排布圖
要理解這一問(wèn)題,需先要理解:為什么PECVD必須要用到NF3?在PECVD中,氣體分子在高頻交變電場(chǎng)作用下電離,形成帶電活性基團(tuán),濺到襯底上成膜。承載高頻交變電場(chǎng)的兩個(gè)電極為:一是饋入射頻源且起到進(jìn)氣勻氣功能的shower head (噴淋頭),二是同時(shí)作為載板和加熱硅片作用的載板。這兩個(gè)電極之間形成了一個(gè)電磁波的“場(chǎng)”。在鍍膜過(guò)程中,噴淋頭表面和載板表面,以及腔體內(nèi)很多的區(qū)域均會(huì)被鍍上薄膜,還會(huì)生成很多的粉塵顆粒。當(dāng)顆粒量累計(jì)到一定程度后,會(huì)使得落在硅片表面的顆粒量超標(biāo),進(jìn)而導(dǎo)致電池性能下降;另外,在噴淋頭和載板上沉積的過(guò)厚的薄膜會(huì)影響兩個(gè)極板之間的放電反應(yīng),導(dǎo)致鍍膜性能發(fā)生變化。所以PECVD工作一段時(shí)間后(~2-3天)必須將腔體、噴淋頭和載板上鍍的膜和粉塵刻蝕清理干凈。目前,最優(yōu)的辦法是用NF3氣體進(jìn)行原位清洗,起輝后刻蝕掉所有的粉塵和鍍的膜層。所以,NF3氣體是PECVD不可或缺的一種特氣,且消耗量很大(因?yàn)橐獙⑺绣兊哪涌涛g干凈)。
在漢可HoFCVD設(shè)備中,一是不會(huì)有粉塵的產(chǎn)生(可參考漢可出品的文章:為什么HoFCVD不產(chǎn)生粉塵);二是載板不是反應(yīng)的電極,不需要傳導(dǎo)電磁波,甚至不需要導(dǎo)電。在腔體中其他位置鍍上的膜層也是類似情況,鍍膜厚度的增加不會(huì)影響熱絲的反應(yīng)進(jìn)行。所以,HoFCVD不需要NF3進(jìn)行原位清洗。
漢可的HoFCVD裝備完全不需要配置NF3。這不僅僅是減少了特氣本身的成本,還會(huì)帶來(lái)廠務(wù)端的大量節(jié)?。簻p少了特氣站的存儲(chǔ)總量和特氣瓶的更換頻率,減少了尾氣處理裝置(Scrubber、噴淋洗滌塔)的配置和消耗。另外,NF3有毒、且有腐蝕性,完全不用NF3,大大提高了設(shè)備使用的安全性和整個(gè)工廠的安全程度;而且降低了對(duì)設(shè)備的腔體材料,氣路管道等防腐蝕性能的要求。綠色環(huán)保,節(jié)能減排,意義重大!
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